特許

J-GLOBAL ID：200903012078745472

銅用レジストを除去するための組成物及びこれを用いた除去方法

発明者： ギョ-チュル・ジョ ,  ギ-サン・チェ ,  オー-ナム・クォン ,  キョン-ムク・イ ,  ヨン-サプ・ファン ,  ソン-ベ・キム ,  サク-チャン・ヤン ,  サク-イル・ヨン
出願人/特許権者： エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド ,  ドンジン セミケム カンパニー リミテッド
代理人 (6件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-249099
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070795
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】【解決手段】本発明による銅用レジストを除去するための組成物は、アルカノールアミンを含む約10重量%〜30重量%の液体アミン化合物と;約10重量%〜80重量%のグリコール類溶媒と;約9.5重量%〜79重量%の極性溶媒と;約0.5重量%〜10重量%の腐食防止剤とを含むことを特徴とする。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

アルカノールアミンを含む10重量%〜30重量%の液体アミン化合物と; 10重量%〜80重量%のグリコール類溶媒と; 9.5重量%〜79重量%の極性溶媒と; 0.5重量%〜10重量%の腐食防止剤と を含む、銅用レジストを除去するための組成物。

IPC (2件)：

G03F7/42 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/42 ,  H01L21/30 572B

Fターム (6件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096LA03 ,  5F046MA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第5,417,877号明細書
  
• 米国特許第5,556,482号明細書
  

審査官引用 (6件)

• ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-001864   出願人：東京応化工業株式会社
• フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-167081   出願人：ナガセ化成工業株式会社
• フォトレジスト剥離剤組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-259854   出願人：ナガセ化成工業株式会社
• ホトレジスト用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-264294   出願人：東京応化工業株式会社
• 電子デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-077503   出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
• 還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-193940   出願人：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド