特許

J-GLOBAL ID：200903030001396490

フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法

発明者： 西嶋 佳孝 ,  小谷 武 ,  宝山 隆博
出願人/特許権者： ナガセ化成工業株式会社
代理人 (1件)： 塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350276
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：

【要約】【課題】 Alの腐蝕を阻止又は大幅に抑制し、なおかつ、優れた剥離・除去性を維持する。【解決手段】 25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa )が7.5〜13、望ましくは8.5〜11のアルキルアミン又はアルカノールアミンと、極性有機溶剤と、水と、環を構成する元素が窒素と炭素からなる複素環式水酸基含有化合物とを主成分としてフォトレジスト剥離剤組成物を構成する。

請求項（抜粋）：

25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa )が7.5〜13のアルキルアミン又はアルカノールアミンと、極性有機溶剤と、水と、環を構成する元素が窒素と炭素からなる複素環式水酸基含有化合物とを主成分とすることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (10件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F043AA37 ,  5F043BB25 ,  5F043CC16 ,  5F043GG10 ,  5F046MA02 ,  5F046MA13 ,  5F046MA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトレジスト剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-288607   出願人：富士フイルムオーリン株式会社
• ホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-375267   出願人：東京応化工業株式会社
• 剥離剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-370694   出願人：住友化学工業株式会社
• ポジ型フォトレジスト用剥離液および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-105186   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 関東化学株式会社