特許

J-GLOBAL ID：200903048414038350

ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法

発明者： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001864
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199971
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 ホトレジスト膜、変質膜のいずれに対しても優れた剥離性を有するとともに、高温処理条件下においても、金属膜、とりわけAlまたはAl合金が形成された基板、あるいはTiが形成された基板の両者に対しても腐食を有効に防止し得るホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。【解決手段】 (a)ヒドロキシルアミン類2〜30重量%、(b)水2〜35重量%、(c)モノエタノールアミンおよび/または2-(2-アミノエトキシ)エタノール25〜40重量%、(d)N-メチル-2-ピロリドンおよび/またはジエチレングリコールモノブチルエーテル20〜32重量%、および(e)芳香族ヒドロキシ化合物2〜20重量%からなるホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法。

請求項（抜粋）：

(a)ヒドロキシルアミン類2〜30重量%、(b)水2〜35重量%、(c)モノエタノールアミンおよび/または2-(2-アミノエトキシ)エタノール25〜40重量%、(d)N-メチル-2-ピロリドンおよび/またはジエチレングリコールモノブチルエーテル20〜32重量%、および(e)芳香族ヒドロキシ化合物2〜20重量%からなる、ホトレジスト用剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (12件)：

2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096GA09 ,  2H096HA01 ,  2H096HA23 ,  2H096LA03 ,  2H096LA07 ,  5F046MA02 ,  5F046MA03 ,  5F046MA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト用剥離液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-335728   出願人：東京応化工業株式会社
• レジスト用剥離液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-276504   出願人：東京応化工業株式会社
• 架橋又は硬化したレジスト樹脂を有する減少した金属腐食を生じるアルカリ含有フォトレジストストリッピング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-299063   出願人：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド
• ヒドロキシルアミン-没食子化合物の組成物及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-191632   出願人：イーケーシーテクノロジー,インコーポレイティド