特許
J-GLOBAL ID：200903012140351850

粒子状フォトレジスト用高分子化合物とその製造法

発明者：
三好 一隆

三好 一隆 について

, 
新井 隆

新井 隆 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-209601
公開番号（公開出願番号）：特開2003-020312
出願日： 2001年07月10日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、レジスト性能に悪影響を及ぼさないような粒子状高分子化合物を得る。【解決手段】 本発明の粒子状フォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、体積平均粒子径が20〜300μmの範囲にあり、且つ粒子径10〜500μmの粒子が全粒子の90体積%以上を占める。このような粒子状フォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物の溶液を、口径6mmφ以下のノズルから貧溶媒中に供給して沈殿又は再沈殿させることにより製造できる。
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、体積平均粒子径が20〜300μmの範囲にあり、且つ粒子径10〜500μmの粒子が全粒子の90体積%以上を占める粒子状フォトレジスト用高分子化合物。
IPC (2件)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
FI (2件)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
Fターム (28件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB54 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA11P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100EA09 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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