特許
J-GLOBAL ID：200903012192190855

光加工装置

発明者：
山本 達也

山本 達也 について

, 
斉藤 善夫

斉藤 善夫 について

, 
佐藤 行雄

佐藤 行雄 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239679
公開番号（公開出願番号）：特開平11-077344
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：
【要約】【課題】 レーザとホログラムを用いて複数の加工位置を同時に加工する光加工装置において、ビームスポット径を小さくすることによってマスク開口内のビーム強度分布を均一にし、ビーム利用効率を高める。【解決手段】 レーザ発振器を備えたレーザ光源、このレーザ光源から出射されるレーザビームを複数の方向に分割するホログラム,ホログラムによって分割されたレーザビームを加工形状に整形するマスク,このマスクを透過したレーザビームを加工ターゲット上に転写するレンズを備えた光加工装置において、前記レーザ発振器は不安定型共振器を備えたものである。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器を有するレーザ光源、前記レーザ光源から出射されるレーザビームを複数の方向へ分割するホログラム、前記ホログラムによって分割されたレーザビームを加工形状に整形するマスク、マスクを透過したレーザビームを加工ターゲット上に転写する転写レンズを備えた光加工装置において、前記レーザ発振器は不安定型共振器を備えたことを特徴とする光加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/08
FI (4件)：
B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 Z ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/08 Z
引用特許：
審査官引用 (6件)
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