特許
J-GLOBAL ID：200903012199464810

触媒担持フィルタ

発明者：
水谷 貴志

水谷 貴志 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-067654
公開番号（公開出願番号）：特開2009-220029
出願日： 2008年03月17日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】PM捕集層にPMを除去するための触媒を担持又はコートして、パティキュレートと酸化触媒との接触度合いを向上させてPMを確実に除去すること、ガスの流出側及びその近傍にある隔壁で未燃ガスのみを浄化することにより、触媒浄化性能を向上させ、さらに、触媒劣化を防止でき、とりわけ、再生効率を向上させ、スート付圧損を減少させ、エミッション向上させる触媒担持フィルタを提供することにある。【解決手段】ガスの流入側となる上流層10とガスの流出側となる下流層11を含む触媒担持フィルタであって、隔壁の上流層10は、平均細孔径を小さくしたPM捕集層9として構成されるとともに、酸化触媒が担持又はコートされたPM除去触媒層10として構成されてなり、隔壁の下流層15は、ガス浄化触媒が担持又はコートされたガス触媒層11として構成されている触媒担持フィルタ。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
多数の細孔を有する多孔質のセラミックからなる隔壁によって区画された、排ガスの流路となる複数のセルを備えるハニカム構造の基材からなり、前記セルの隔壁が、ガスの流入側となる上流層とガスの流出側となる下流層を含む触媒担持フィルタであって、 前記複数のセルの一方の開口端部と他方の開口端部には互い違いに目封じされてなる目封止部が形成されてなり、 前記隔壁の上流層は、パティキュレートを捕集するために平均細孔径を小さくしたPM捕集層として構成されるとともに、前記排ガス中に含まれるパティキュレートの酸化を促進するための酸化触媒が担持又はコートされたPM除去触媒層として構成されてなり、 前記隔壁の下流層は、未燃ガスの酸化を促進するガス浄化触媒が担持又はコートされたガス触媒層として構成されている触媒担持フィルタ。
IPC (6件)：
B01D 53/94 ,  B01J 35/04 ,  B01D 39/14 ,  B01D 39/20 ,  B01D 46/00 ,  F01N 3/02
FI (8件)：
B01D53/36 104B ,  B01J35/04 301E ,  B01D39/14 B ,  B01D39/20 D ,  B01D46/00 302 ,  F01N3/02 321A ,  B01J35/04 301Z ,  F01N3/02 301C
Fターム (57件)：
3G090AA03 ,  3G090BA01 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BC07 ,  4D019BD01 ,  4D019BD02 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D019CB06 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA45X ,  4D048BB02 ,  4D048BB14 ,  4D048BB17 ,  4D048CD05 ,  4D058JA37 ,  4D058JA38 ,  4D058JB06 ,  4D058JB29 ,  4D058KB05 ,  4D058MA44 ,  4D058SA08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA11 ,  4G169BA01B ,  4G169BA13A ,  4G169BC40B ,  4G169BC41A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51B ,  4G169BC62B ,  4G169BC75B ,  4G169BD04B ,  4G169BD05B ,  4G169CA03 ,  4G169CA18 ,  4G169CD05 ,  4G169EA18 ,  4G169EA25 ,  4G169EA26 ,  4G169EA27 ,  4G169EC17Y ,  4G169EC21Y ,  4G169FA06 ,  4G169FB15 ,  4G169FB30 ,  4G169FB67
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 実用新案登録第2607898号公報
  • 特公平07-106290号公報
  • セラミックスフィルタの製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-244436   出願人：アマノ株式会社, 旭硝子株式会社
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM