特許
J-GLOBAL ID：200903012218873905

エキシマ光照射装置

発明者：
遠藤 真一

遠藤 真一 について

, 
小柳 博

小柳 博 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 五十畑 勉男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-246405
公開番号（公開出願番号）：特開2008-068155
出願日： 2006年09月12日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】この発明が解決しようとする課題は、エキシマ光を利用した液晶パネル用ガラス基板等の洗浄装置において、効率の良い洗浄を行い、大型基板に対しても洗浄ムラを少なくすることのできるエキシマ光照射装置を提供することにある。【解決手段】本発明のエキシマ光照射装置は、複数のエキシマランプを並列配置したランプハウス内に少なくとも窒素等の不活性ガスを含むガスを噴出するブロー管を備え、該ブロー管と該エキシマランプ上面部分と該ランプハウスの仕切壁とで囲まれる第一の置換空間と、該ブロー管と該エキシマランプ下面部分と搬送される基板とで囲まれる第二の置換空間を備え、該ブロー管から該第一の置換空間に向かって不活性ガスを噴出することによって該第一の置換空間を形成することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
搬送される基板に対してエキシマ光を照射するエキシマ光照射装置であって、 ランプハウス内に略棒状のエキシマランプが複数本並列配置されており、基板を送る搬送手段を有し、 前記ランプハウスには、隔壁部材が設けられ、該隔壁部材と各々の該エキシマランプとの間に狭窄部が形成されており、 該ランプハウス内の該狭窄部より該エキシマランプ上方に第一の置換空間を形成し、該狭窄部より該エキシマランプ下方である基板側に第二の置換空間を形成し、該第一の置換空間側に不活性ガスを含むガスを噴出する噴出口が設けられていることを特徴とするエキシマ光照射装置。
IPC (1件)：
B01J 19/12
FI (1件)：
B01J19/12 C
Fターム (11件)：
4G075AA30 ,  4G075AA62 ,  4G075BC10 ,  4G075CA33 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EC02 ,  4G075EC09 ,  4G075ED11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)
  • 紫外光照射装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-123581   出願人：ホーヤ・ショット株式会社

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