特許
J-GLOBAL ID：200903012340251826
磁気ヘッド用スライダの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-294247
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204219
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】磁気ヘッドのスライダの被加工面以外の面であるヘッド素子面、その裏面への汚れ、傷等を防止し、高歩留まりの磁気ヘッドの製造方法を提供する。【構成】次の(1)〜(6)の工程の製造方法とする。(5)の工程と(6)の工程とは逆でも良い。(1)非磁性基板1aの一面にフォトリソグラフィーによりヘッド素子30をマトリクス状に複数列形成するヘッド素子形成工程と、(2)基板のヘッド素子30形成面及びその裏面への有機保護膜5形成工程と、(3)ヘッド素子30の一列分のスライダブロック(SB)6を切断し、そのスライダ面、裏面を研削する工程と、(4)SB6のスライダ面にレール溝11aを形成するスライダレール形成工程と、(5)レール溝が形成のSB6から有機保護膜5を除去する工程と、(6)SB6からスライダを切り出す切断工程。
請求項（抜粋）：
(1)非磁性基板の一面にフォトリソグラフィーによりヘッド素子をマトリクス状に複数列形成するヘッド素子形成工程と、(2)基板のヘッド素子形成面及びその裏面にそれぞれ有機保護膜を形成する有機保護膜形成工程と、(3)ヘッド素子一列分を単位としたスライダブロックを切断し、スライダブロックのスライダ面及びその裏面を研削する切断研削工程と、(4)スライダブロックのスライダ面にドライエッチングによりレール溝を形成するスライダレール形成工程と、(5)レール溝が形成されたスライダブロックから有機保護膜を除去する有機保護膜除去工程と、(6)スライダブロックからスライダを切り出す切断工程とからなることを特徴とする磁気ヘッド用スライダの製造方法。
引用特許：
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