特許
J-GLOBAL ID：200903012345332239
基板処理システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-121329
公開番号（公開出願番号）：特開平11-309407
出願日： 1998年04月30日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：
【要約】【課題】 設置スペースの共用化を図ることができてシステム全長の短縮化を図る。【解決手段】 基板処理装置としての塗布装置2a,2bが対向して配置され、この対向配置された各塗布装置2a,2bに対してそれぞれ各旋回手段4a,4bがそれぞれ、基板保持ステージ3a,3bが所定角度姿勢となる基板セッティングエリアであるセッティング位置10a,10bを共用するように対称的にそれぞれ配置されるため、設置スペースを共用することができると共に、システム全長の短縮化が可能でフットプリントの悪化や、システム全長によるレイアウト上の制約を解消することができる。
請求項（抜粋）：
処理前基板搬送経路を所定搬送角度姿勢で搬送されてきた処理前基板を基板処理装置の基板処理位置上に移送して垂直または傾斜姿勢で基板処理すると共に、この基板処理装置で基板処理された処理済み基板を前記基板処理装置の基板処理位置から処理済み基板搬送経路に移送する基板処理システムにおいて、前記基板処理装置が対向配置され、この対向配置された各基板処理装置に対して、基板を保持する基板保持ステージの基板保持面が軸支部を回動中心として所定角度姿勢と垂直または傾斜姿勢の何れかになるように前記基板保持ステージを回動自在な各旋回手段が、前記基板保持ステージが前記所定角度姿勢となる基板セッティングエリアを共用するように配置され、前記処理前基板搬送経路上の基板を前記所定角度姿勢の基板保持ステージの基板保持面上に移送すると共に、前記基板処理装置で基板処理された処理済み基板を前記所定角度姿勢の基板保持ステージから前記処理済み基板搬送経路上に移送する基板移載手段が配置されたことを特徴とする基板処理システム。
IPC (7件)：
B05C 13/02
, B65G 49/06
, G02F 1/00
, G03F 7/00
, H01L 21/027
, H01L 21/68
, B05C 5/00
B05C 13/02
, B65G 49/06 Z
, G02F 1/00
, G03F 7/00
, H01L 21/68 A
, B05C 5/00 Z
, H01L 21/30 564 C
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)
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基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-171048
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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