特許
J-GLOBAL ID：200903012355687515
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
西村 竜平
, 佐藤 明子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-333346
公開番号（公開出願番号）：特開2007-138247
出願日： 2005年11月17日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができる成膜装置を提供する。【解決手段】基板2を内部に収容する成膜室3と、その基板2から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室3内に液体状態で噴射する噴射弁4と、を備えてなり、前記噴射弁4に設けられた噴射孔Hの横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には奥から出口に近づくほど徐々に拡開し、出口近傍において少なくとも細長い帯状をなすように構成した。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、
前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど徐々に拡開し、出口近傍において少なくとも細長い帯状をなすように構成されている成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030BA42
, 4K030EA03
, 4K030EA04
, 4K030EA05
, 4K030FA10
, 5F045AA04
, 5F045AB31
, 5F045AC09
, 5F045AC11
, 5F045EF02
