特許
J-GLOBAL ID：200903020179793934
液体材料気化供給装置、薄膜堆積装置および薄膜堆積装置への液体材料気化供給方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-364741
公開番号（公開出願番号）：特開2004-197135
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】CVDプロセスにおいて液体材料を最低限の加熱により気化供給することができ、多くの材料を速やかに所定量だけ正確に気化することができる液体材料気化供給装置、薄膜堆積装置および液体材料気化供給方法を提供する。【解決手段】反応室11内に気化した液体材料LMを減圧下で供給することで加工対象12上に薄膜を堆積する薄膜堆積装置1に用いられ、前記液体材料LMに圧力Pをかける加圧手段10と、この加圧手段10によって加圧された液体材料LMを充填するインジェクタ本体14と、このインジェクタ本体14の先端に形成された噴射口14aと、この噴射口14aを開閉する開閉弁15とを有し、前記開閉弁15を開放することで加圧された液体材料LMを減圧下に噴霧して液体材料LMを減圧沸騰によって気化可能とした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
反応室内に気化した液体材料を減圧下で供給することで加工対象上に薄膜を堆積する薄膜堆積装置に用いられ、
前記液体材料に圧力をかける加圧手段と、
この加圧手段によって加圧された液体材料を充填するインジェクタ本体と、
このインジェクタ本体の先端に形成された噴射口と、
この噴射口を開閉する開閉弁とを有し、
前記開閉弁を開放することで加圧された液体材料を減圧下に噴霧して液体材料を減圧沸騰によって気化可能としたことを特徴とする液体材料気化供給装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4K030AA06
, 4K030BA29
, 4K030EA01
, 5F045AA06
, 5F045EE02
, 5F045EE04
, 5F045EE07
, 5F045EE13
, 5F045EF02
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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