特許

J-GLOBAL ID：200903012392736364

高一酸化炭素濃度合成ガスの製造方法及び製造装置

発明者： 深田 徹 ,  水野 三千一 ,  山田 恵 ,  森田 浩光 ,  斉藤 芳則 ,  丸澤 博 ,  和田 信之
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社 ,  株式会社村田製作所
代理人 (2件)： 鈴江 正二 ,  木村 俊之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-043196
公開番号（公開出願番号）：特開2008-208148
出願日： 2007年02月23日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：

【課題】 水素に対する一酸化炭素比率の高い合成ガスを製造する方法及び装置を提供する。 【解決手段】 炭化水素系ガスを改質することで得られた改質ガス、あるいは、改質ガスの原料ガスを、二酸化炭素吸収後の二酸化炭素吸収材に流通させることで、二酸化炭素吸収材から二酸化炭素を放出する再生反応と、二酸化炭素と水素から一酸化炭素と水とを生成する逆シフト反応とにより一酸化炭素濃度の高い高一酸化炭素濃度合成ガスを生成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

反応管に二酸化炭素吸収材を充填し、この反応管に炭化水素系ガスを水蒸気改質することで得られた改質ガス、または炭化水素系ガスを部分酸化することによって得られた改質ガスを流通させ、二酸化炭素吸収材から二酸化炭素を放出させ、この放出された二酸化炭素と改質ガスとの反応により、一酸化炭素濃度の高い高一酸化炭素濃度合成ガスを生成することを特徴とする高一酸化炭素濃度合成ガスの製造方法。

IPC (3件)：

C10K 3/00 ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/36

FI (3件)：

C10K3/00 ,  C01B3/38 ,  C01B3/36

Fターム (18件)：

4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB12 ,  4G140EB31 ,  4G140EB41 ,  4G146JA01 ,  4G146JB02 ,  4G146JB04 ,  4G146JB10 ,  4G146JC01 ,  4G146JC18 ,  4G146JC22 ,  4H060AA01 ,  4H060BB07 ,  4H060BB08 ,  4H060BB11 ,  4H060GG08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 合成ガスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-188200   出願人：大阪瓦斯株式会社

審査官引用 (3件)

• 二酸化炭素分離燃料化の装置及び方法、並びに二酸化炭素分離回収の装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-084270   出願人：JFEエンジニアリング株式会社
• 一酸化炭素及び水素の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-333384   出願人：コスモエンジニアリング株式会社
• 二酸化炭素の分離回収方法および二酸化炭素の分離回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-124117   出願人：株式会社村田製作所