特許
J-GLOBAL ID：200903012411307917

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者：
佐藤 慶一

佐藤 慶一 について

, 
六本木 哲也

六本木 哲也 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-072703
公開番号（公開出願番号）：特開2001-256613
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 従来のフォトリソグラフィーを用いた技術では製造することが困難であった磁極幅の小さな薄膜磁気ヘッドを実現する。【解決手段】 上部磁極層を形成する工程では、まず、基板20の上に、上部磁極層をフレームめっき法によって形成する際に使用される電極層21を形成する。次に、電極層21の上に、電子線リソグラフィー用レジストを塗布してレジスト層を形成する。レジストには、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジストを使用する。次に、電子線によってレジスト層を露光する。次に、レジスト層を現像して、フレーム22を作製する。そして、このフレーム22を用いて、フレームめっき法によって、上部磁極層を形成する。
請求項（抜粋）：
互いに磁気的に連結され、記録媒体に対向する媒体対向面側において互いに対向する磁極部分を含み、それぞれ少なくとも1つの層を含む第1および第2の磁性層と、前記第1の磁性層の磁極部分と前記第2の磁性層の磁極部分との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、前記第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備え、少なくとも一方の磁性層における磁極部分の幅は0.3μmよりも小さいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (3件)：
G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 K
Fターム (5件)：
5D033BA13 ,  5D033BB43 ,  5D033DA02 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31
引用特許：
審査官引用 (3件)

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