塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-361967
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164278
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】塗布液の吐出制御性と消費効率とを同時に改善すること。【解決手段】レジスト液タンク78とレジストノズル62との間に、レジスト液流路の分岐点を有する1入力ポート/2出力ポート型の流路切換部80が設けられる。レジスト液タンク78と流路切換部80の入力ポートINとは配管82で接続され、この配管82の途中にポンプ84およびフィルタ86が設けられる。流路切換部80において、第1出力ポートOUT1は配管88を介してレジストノズル62のレジスト導入部に接続され、第2出力ポートOUT2は配管90を介してレジスト液タンク78の容器内部に接続される。配管90の途中に圧力制御弁92が設けられる。ポンプ84、流路切換部80および圧力制御弁92は制御部100によって制御される。

請求項（抜粋）：

被処理基板に向けて所定の塗布液を吐出するためのノズルと、前記塗布液を貯留する塗布液貯留部と、前記塗布液貯留部と所定の流路分岐点とを結ぶ第1の流路と、前記流路分岐点と前記ノズルの吐出口とを結ぶ第2の流路と、前記流路分岐点と前記塗布液貯留部とを結ぶ第3の流路と、前記塗布液貯留部から前記塗布液を前記第1の流路を介して前記流路分岐点側へ送るための塗布液供給手段と、前記第2および第3の流路における前記塗布液の流れを制御する制御手段とを有する塗布装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , B05C 11/10 , B05D 1/26 , B05D 3/00 , B05D 7/00 , G03F 7/16 501

FI (7件)：

B05C 11/10 , B05D 1/26 Z , B05D 3/00 B , B05D 3/00 D , B05D 7/00 H , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 Z

Fターム (19件)：

2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025EA04 , 4D075AC04 , 4D075AC84 , 4D075AC91 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC22 , 4F042AA06 , 4F042BA12 , 4F042CA01 , 4F042CB02 , 4F042CB08 , 4F042CB19 , 4F042CB20 , 5F046JA01 , 5F046JA03

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板処理液供給機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-315524 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-017968
特開平2-159015

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