光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び基板保護用フィルム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-311374
公開番号（公開出願番号）：特開2003-122005
出願日： 2001年10月09日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：

【要約】【解決手段】 (A)式(1)の繰り返し単位を有するオルガノシロキサン系高分子化合物、【化1】(R1〜R4は1価炭化水素基、nは1〜1,000、Xは下記式から選ばれる基)【化2】(B)ホルマリン又はホルマリン-アルコールにより変性されたアミノ縮合物、一分子中に平均して2個以上のメチロール基又はアルコキシメチロール基を有するフェノール化合物、及び一分子中に平均して2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物から選ばれるいずれか1種以上、(C)光酸発生剤、(D)(R11)mSi(OR12)4-m又はその部分加水分解縮合物(R11は1価炭化水素基、R12はアルキル基、mは0〜2の整数)を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。【効果】本発明の光硬化性樹脂組成物を用いることにより、耐ドライエッチング性に優れたパターンを形成することが可能である。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物、【化1】(式中、R1〜R4はそれぞれ同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1,000の整数である。Xは下記式から選ばれる基を示す。)【化2】(B)ホルマリン又はホルマリン-アルコールにより変性されたアミノ縮合物、一分子中に平均して2個以上のメチロール基又はアルコキシメチロール基を有するフェノール化合物、及び一分子中に平均して2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物から選ばれるいずれか1種以上、(C)光酸発生剤、(D)下記一般式(2)で示される珪素化合物又はその部分加水分解縮合物 (R11)mSi(OR12)4-m (2) (式中、R11は置換又は非置換の炭素数1〜9の1価炭化水素基であり、R12は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R11及びR12は同一でも異なってもよい。mは0〜2の整数を表す。)を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。

IPC (13件)：

G03F 7/038 601 , B05D 7/24 301 , C08G 59/62 , C08J 5/18 CFH , C08K 5/13 , C08K 5/5415 , C08L 83/04 , C08L 83/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 521 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027 , C08L 61:20

FI (13件)：

G03F 7/038 601 , B05D 7/24 301 T , C08G 59/62 , C08J 5/18 CFH , C08K 5/13 , C08K 5/5415 , C08L 83/04 , C08L 83/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 521 , G03F 7/40 501 , C08L 61:20 , H01L 21/30 502 R

Fターム (68件)：

2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB32 , 2H025CB33 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA15 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA06 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096EA03 , 2H096EA06 , 2H096FA01 , 2H096GA02 , 2H096GA03 , 2H096HA01 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 2H096LA16 , 4D075BB42Z , 4D075CA47 , 4D075DB31 , 4D075DC21 , 4D075EA21 , 4D075EB43 , 4F071AA41 , 4F071AA42 , 4F071AA52 , 4F071AA67 , 4F071AC16 , 4F071AF29 , 4F071AH12 , 4F071AH13 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4J002CC182 , 4J002CC212 , 4J002CD002 , 4J002CP031 , 4J002EJ016 , 4J002EX037 , 4J002GH00 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J036AA01 , 4J036AB03 , 4J036AD01 , 4J036AE05 , 4J036AE07 , 4J036AF06 , 4J036CD16 , 4J036FB07 , 4J036FB16 , 4J036GA26 , 4J036HA01 , 4J036HA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-158325 出願人：信越化学工業株式会社
化学増幅系ネガ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-053950 出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (5件)

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-158325 出願人：信越化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-229442 出願人：日本合成ゴム株式会社
フォトソルダーレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-296332 出願人：東洋インキ製造株式会社

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