描画装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：田中隆秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374716
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195461
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ウエハの描画装置において、シャッタ基板上に1本のライン方向に沿って、荷電粒子ビームオン・オフ用の複数のシャッタ空間を隙間無く配置すること。【解決手段】荷電粒子ビーム平行化レンズで平行化された荷電粒子ビームの通路に配置され、所定の間隔で形成された荷電粒子ビーム通過用の平行な複数のスリット113Sを有するスリット基板113と、スリット基板113の下方に配置され且つ前記スリット基板113の複数の各スリット113Sに対応してシャッタスリット114S,115Sが形成されたシャッタ基板114,115と、下側シャッタ電極の下方に配置されたフィルタ基板116であって、前記シャッタ基板114,115の複数の各スリット114S,115Sに対応してフィルタスリット116Sが形成されたフィルタ基板116と、を備えた描画装置。

請求項（抜粋）：

下記の要件(A01)〜(A010)を備えたことを特徴とする描画装置、(A01)XYステージを収容する真空室を形成する外壁、(A02)前記外壁の上部を形成する上壁部に装着され且つ下方に向かう荷電粒子ビームを出射する荷電粒子銃が上部に配置された描画鏡筒、(A03)前記荷電粒子ビームの通路に配置され、所定の間隔で形成された荷電粒子ビーム通過用の平行な複数のシャッタスリットが形成されたシャッタ基板、(A04)前記各シャッタスリットをその長手方向に沿って所定間隔で区分した各スリット部分により形成され且つ前記荷電粒子ビームを直進または偏向させる各シャッタ空間に対応して、前記各シャッタ空間を形成する一方の側縁に形成されたシャッタ駆動電極および他方の側縁に形成されたシャッタ対向電極を有するシャッタ電極、(A05)前記シャッタ空間を前記荷電粒子ビームが直進して前記ウエハを照射するビームオンの状態にするシャッタオフの状態と、前記シャッタ空間を通過する際荷電粒子ビームが偏向して前記ウエハを照射しないビームオフの状態にするシャッタオンの状態とを切替えるため、前記各シャッタ駆動電極を駆動するシャッタ駆動回路、(A06)前記シャッタ基板の下方に配置されたフィルタ基板であって、前記シャッタ基板の複数の各スリットに対応してフィルタスリットが形成されたフィルタ基板、(A07)前記フィルタ基板の下方に配置されて荷電粒子ビームの径を縮小するビーム縮小レンズ、および荷電粒子ビームの光軸に垂直な平面内で前記スリットの延びる方向およびそれに垂直な方向に設定されたX軸およびY軸のうちの前記スリットに垂直な軸方向に前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向器、(A08)前記X偏向器を駆動するX偏向器駆動回路、および前記Y偏向器を駆動するY偏向器駆動回路、(A09)前記ビーム縮小レンズおよび前記偏向器の下方に配置され且つ前記X軸方向およびY軸方向にそれぞれ独立して平行移動可能なXYステージ、(A010)前記XYステージをX軸方向に移動させるX軸方向ステージ駆動装置、およびY軸方向に移動させるY軸方向ステージ駆動装置。

IPC (7件)：

H01J 37/305 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , G21K 5/04 , H01J 37/09 , H01J 37/147 , H01L 21/027

FI (8件)：

H01J 37/305 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 506 , G21K 5/04 M , H01J 37/09 Z , H01J 37/147 C , H01L 21/30 541 B , H01L 21/30 551

Fターム (21件)：

2H097BB03 , 2H097CA07 , 2H097CA16 , 2H097KA28 , 2H097LA10 , 5C033GG03 , 5C033GG04 , 5C033GG05 , 5C033GG07 , 5C034BB02 , 5C034BB03 , 5C034BB04 , 5C034BB05 , 5C034BB07 , 5C034BB10 , 5F056AA22 , 5F056AA33 , 5F056BA08 , 5F056CC07 , 5F056CD20 , 5F056FA07

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平2-054855
特開平4-058518
特開昭59-071246

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審査官引用 (4件)

特開平2-054855
特開平4-058518
特開昭59-071246

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