特許
J-GLOBAL ID：200903012862284244
支持テーブルの支持表面上の突起の高さを調節する方法、リソグラフィ投影装置、およびリソグラフィ装置内で品目を支持する支持テーブル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-227197
公開番号（公開出願番号）：特開2006-024954
出願日： 2005年07月07日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【課題】リソグラフィ投影装置のビーム路を横切る所定の面で、平面を有する品目を保持する支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法を提供する。【解決手段】装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。支持テーブルは、支持表面と、品目を支持するように構築され、配置構成された、支持表面上に配置されたアレイ状の突起を有する。位置選択的材料表面溶融デバイスは、支持テーブルが装置内で動作可能である場合に、個々の突起に作用するように構成され、したがって突起の上面の局所的区域が溶融して、その後に冷め、それによって局所的区域が突起の上面に対して隆起する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置のビーム路を横切る所定の面で、平面を有する品目を保持する支持テーブルの支持表面上にある突起の高さを調節する方法であって、突起は、支持表面に配置され、自身上に品目を支持するようにアレイ状であり、少なくとも1つの突起を局所的な表面熱処理のプロセスにかけるステップを含み、したがって突起の上面の局所的区域が溶融して、その後に冷め、それによって区域が突起の上面に対して隆起する方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/683
H01L21/30 503C
, G03F7/20 521
, H01L21/68 N
, H01L21/30 515G
5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031MA27
, 5F046CC08
, 5F046CC09
, 5F046CC11
