特許

J-GLOBAL ID：200903012995107841

光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置

発明者： 澁谷 宗裕
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-033107
公開番号（公開出願番号）：特開2007-298951
出願日： 2007年02月14日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができる光学多層膜フィルタと、該フィルタを簡便に製造する光学多層膜フィルタの製造方法、さらに、このような光学多層膜フィルタを組み込んだ電子機器装置を提供すること。【解決手段】光学多層膜フィルタ10は、基板1上に形成された複数層からなる無機薄膜2を有し、前記無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度が1.9〜2.2g/cm3である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成された複数層からなる無機薄膜を有する光学多層膜フィルタであって、 前記無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度が1.9〜2.2g/cm3であることを特徴とする光学多層膜フィルタ。

IPC (5件)：

G02B 5/28 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/10 ,  B32B 7/02

FI (5件)：

G02B5/28 ,  B32B9/00 A ,  C23C14/08 N ,  C23C14/10 ,  B32B7/02 103

Fターム (47件)：

2H048GA04 ,  2H048GA14 ,  2H048GA18 ,  2H048GA19 ,  2H048GA24 ,  2H048GA32 ,  2H048GA51 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  4F100AA01B ,  4F100AA01D ,  4F100AA20C ,  4F100AA21 ,  4F100AC10 ,  4F100AG00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH66C ,  4F100GB41 ,  4F100JA13C ,  4F100JD12B ,  4F100JG01D ,  4F100JG03 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JN00 ,  4F100JN01D ,  4F100YY00C ,  4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA02 ,  4K029CA09 ,  4K029DB02 ,  4K029DB03 ,  4K029DB14 ,  4K029DB21 ,  4K029EA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光変調装置及び該光変調装置を備えたプロジェクタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-020136   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (3件)

• 多層膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-043263   出願人：東レ株式会社
• 光学薄膜及び光学素子及び光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-246338   出願人：株式会社ニコン
• 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-142948   出願人：佐野富士光機株式会社