特許
J-GLOBAL ID：200903071356459423
真空蒸着装置及び真空蒸着方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-142948
公開番号（公開出願番号）：特開2004-346354
出願日： 2003年05月21日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
【課題】光学ガラス等の基板に二酸化ケイ素薄膜を形成するに当って、その薄膜の基板表面への付着密度及び強度を高め、安定した光学特性を備えた光学部品を効率的に製造できるようにする。【解決手段】真空チャンバ1内には、二酸化ケイ素を蒸着物質11とする坩堝12からなる第1の蒸着源10と、ケイ素を蒸着物質21とする坩堝22からなる第2の蒸着源20とが設けられて、第1,第2の電子ビーム加熱装置13,23により独立に加熱してそれぞれ二酸化ケイ素及びケイ素を蒸発させる。真空チャンバ1内の水分が水蒸気となり、かつそれらの分解生成物として水素と酸素とが雰囲気中に浮遊するが、第2の蒸着源20から蒸発したケイ素は真空チャンバ1の内部に浮遊している酸素と結合することにより消費され、成膜物質である二酸化ケイ素に変換されて基板2に付着する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空チャンバの内部に配置される基板と、
前記基板に蒸着される二酸化ケイ素または5酸化タンタルを溶融温度乃至その近傍の温度に加熱して蒸発させる第1の蒸着源と、
前記真空チャンバの内部に浮遊する酸素と結合して二酸化ケイ素または5酸化タンタルとなるケイ素またはタンタルを溶融温度乃至その近傍の温度に加熱して、蒸発させる第2の蒸着源と、
これら第1,第2の蒸着源をそれぞれ独立に、かつ同時に加熱できるようにした第1,第2の加熱手段と
を備えた真空蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C14/24
, C23C14/08
, G02B5/28
C23C14/24 C
, C23C14/24 S
, C23C14/08 N
, G02B5/28
2H048GA04
, 2H048GA17
, 2H048GA33
, 2H048GA60
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA02
, 4K029DB14
, 4K029EA02
, 4K029EA03
