処理剤残留物のモニタ及び水処理プロセスにおける処理剤投与量の制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏原三枝子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-552273
公開番号（公開出願番号）：特表2008-533438
出願日： 2006年01月20日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：

【課題】【解決手段】処理水中の残留処理剤のモニタ方法であって、フルオレセイントレーサで標識又は追跡した少なくとも2つの異なる投与量の処理剤で、水の蛍光強度が処理剤の残留濃度(concentratio)と相関している方法。また、異なる処理剤投与量での蛍光応答を用いて、継続的に最適な処理剤投与量を自動で決定し、それによって処理剤投与量を制御する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

残留処理剤をモニタし、前記処理剤で処理された処理水中の最適な処理剤投与量を決定する方法において、逐次的に、 i) 蛍光トレーサで追跡又は標識した第1の投与量の前記処理剤を、前記処理水に添加するステップと、 ii) 前記処理水の蛍光強度を測定するステップと、 iii)前記蛍光トレーサで追跡又は標識した第2の投与量の前記処理剤を、前記処理水に添加するステップと; iv) 前記処理水の蛍光強度を測定するステップと; v-a)第1及び第2の処理剤投与量での前記処理水の測定された蛍光強度の変化を前記処理剤の残留濃度に関連付けるステップ;又は、 v-b)前記処理剤の残留濃度に前記第1及び第2の処理剤投与量での前記処理水の測定された蛍光強度の変化を、測定した蛍光強度の非比例的変化と関連付けるステップであって、前記処理水の測定した蛍光強度の非比例的変化を用いて、前記最適な処理剤投与量に相当する設定値を決定するステップと; を具えることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

G01N 21/64 , C02F 1/52 , B01D 61/04 , B01D 61/58

FI (5件)：

G01N21/64 F , C02F1/52 Z , B01D61/04 , B01D61/58 , G01N21/64 C

Fターム (54件)：

2G043AA01 , 2G043BA14 , 2G043CA03 , 2G043DA01 , 2G043DA09 , 2G043EA01 , 2G043NA01 , 2G043NA13 , 4D006GA03 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006HA01 , 4D006HA21 , 4D006HA41 , 4D006HA61 , 4D006KA03 , 4D006KB13 , 4D006KB15 , 4D006KD08 , 4D006KD30 , 4D006KE12P , 4D006KE13P , 4D006KE30Q , 4D006MC03 , 4D006MC54 , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PB08 , 4D006PC01 , 4D006PC11 , 4D006PC41 , 4D015BA22 , 4D015BA23 , 4D015BB05 , 4D015BB08 , 4D015BB12 , 4D015BB13 , 4D015BB14 , 4D015BB16 , 4D015BB17 , 4D015DA04 , 4D015DA06 , 4D015DA08 , 4D015DA09 , 4D015DA13 , 4D015DA16 , 4D015DB15 , 4D015DB19 , 4D015DB25 , 4D015DB44 , 4D015EA36 , 4D015EA37 , 4D015FA02 , 4D015FA17

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-115093
高分子電解質水処理剤の投与量の最適化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-005908 出願人：ナルコケミカルカンパニー
水処理用ポリマー及び水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-323840 出願人：栗田工業株式会社

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