特許
J-GLOBAL ID:200903013303574220

レジスト現像装置およびその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-236760
公開番号(公開出願番号):特開平8-102436
出願日: 1994年09月30日
公開日(公表日): 1996年04月16日
要約:
【要約】【目的】 現像液中の気泡を除去してレジスト膜と現像液とを確実に接触させ、所望のレジストパターンを得る。【構成】 レジスト現像装置10は、保持台11上に載置したウエハ1表面に現像液を供給して、ウエハ1表面に形成された露光後のレジスト膜を現像する装置であって、保持台11の上方に昇降自在な平板13を配置したものである。この平板13は、ウエハ1と略同形状またはウエハ1よりも大きい形状を有し、保持台11側の面が略平滑で、平板13の保持台11側の面と保持台11上に載置されるウエハ1表面とが略平行になっている。
請求項(抜粋):
保持台上に載置したウエハ表面に現像液を供給して、該ウエハ表面に形成された露光後のレジスト膜を現像するレジスト現像装置において、前記保持台の上方に、前記ウエハと略同形状または該ウエハよりも大きい形状を有しかつ前記保持台側の面が略平滑な平板を、前記保持台側の面を該保持台に載置されるウエハ表面に対して略平行にかつ昇降自在に配置したことを特徴とするレジスト現像装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03D 5/04 ,  G03F 7/30 501
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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