特許

J-GLOBAL ID：200903013400688621

縦型加熱装置

発明者： 渡辺 文夫 ,  芳賀 重崇 ,  三浦 邦明
出願人/特許権者： 助川電気工業株式会社
代理人 (1件)： 北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331009
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148350
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】 ボート27の多くの段で半導体ウエハを、面方向及び段方向の双方において均一な温度に加熱する。【解決手段】 縦型加熱装置は、加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲む化学的、熱的に安定した材料からなるチューブ8、9と、このチューブ8、9の内部を加熱するヒータ12、13、15とを有する。ここで、前記ヒータ12、13、15は、加熱物の周囲を円筒状に囲んで配置した第一のヒータ12と、加熱物の上に対向して配置した第二のヒータ13と、加熱物の下に対向して配置した第三のヒータ15からなる。

請求項（抜粋）：

加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲むように立設された円筒形の化学的、熱的に安定した材料からなるチューブ(8)、(9)と、このチューブ(8)、(9)の内部を加熱するヒータ(12)、(13)、(15)とを有する縦型加熱装置において、前記ヒータ(12)、(13)、(15)は、加熱物の周囲を円筒状に囲んで配置した第一のヒータ(12)と、加熱物の上に対向して配置した第二のヒータ(13)と、加熱物の下に対向して配置した第三のヒータ(15)からなることを特徴とする縦型加熱装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/22 511 A ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/205

Fターム (15件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030KA04 ,  4K030KA23 ,  4K030KA45 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045BB01 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EK06 ,  5F045EK08 ,  5F045EK22

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 基板熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-340273   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 加熱炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-170806   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 熱処理装置及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-179223
  
• 特開平4-139381