特許
J-GLOBAL ID:200903013439205660
光プローブおよびこれを用いた光断層画像化装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
柳田 征史
, 佐久間 剛
, 本澤 大樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-042604
公開番号(公開出願番号):特開2009-198425
出願日: 2008年02月25日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
【課題】光トモグラフィー計測を用いた光断層画像化装置において、回転ムラによる画質の劣化を防止する。【解決手段】光プローブ10には、測定光L1を透過する光透過領域PRと、光透過領域PRの開始位置および終了位置に設けられた測定光L1を遮光する遮光領域SRとが形成されている。そして、断層画像処理手段50において、遮光領域PRに測定光L1が照射されたときの干渉信号ISもしくは断層情報r(z)を検出することにより、光透過領域PRに測定光L1を照射したときに取得された干渉信号ISもしくは断層情報r(z)を検出し、光透過領域PRの断層画像Pを生成する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
被検体内に挿入される略円筒形のプローブ外筒と、
該プローブ外筒の内部空間に長手方向に配設された光ファイバと、
該光ファイバの先端から出射した光を前記被検体に向けて偏向させる、前記プローブ外筒に対し回転可能な先端光学系と
を備え、
前記プローブ外筒が、
前記先端光学系から射出される前記光を透過する前記光ファイバの回転方向に沿って形成された光透過領域と、前記先端光学系から射出される前記光を遮光する前記光透過領域の開始位置および終了位置に形成された遮光領域とを備えたことを特徴とする光プローブ。
IPC (4件):
G01N 21/17
, A61B 1/00
, A61B 10/00
, G01B 11/24
FI (5件):
G01N21/17 625
, A61B1/00 300D
, A61B1/00 300Y
, A61B10/00 E
, G01B11/24 D
Fターム (48件):
2F065AA52
, 2F065AA53
, 2F065CC16
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065GG25
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL12
, 2F065LL14
, 2F065LL42
, 2F065MM16
, 2F065QQ16
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE12
, 2G059FF02
, 2G059GG02
, 2G059GG09
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK03
, 2G059LL04
, 4C061AA00
, 4C061BB04
, 4C061CC04
, 4C061DD03
, 4C061FF35
, 4C061FF40
, 4C061FF46
, 4C061FF47
, 4C061HH51
, 4C061MM10
, 4C061NN01
, 4C061PP12
, 4C061QQ09
, 4C061RR03
, 4C061RR06
, 4C061RR18
, 4C061RR26
, 4C061TT07
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特許3104984号公報
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光イメージング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-134590
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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光イメージング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-028231
出願人:ユニバーシティーホスピタルオブクリーブランド, オリンパス光学工業株式会社
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審査官引用 (3件)
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