特許
J-GLOBAL ID：200903013546618307
フォトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-415326
公開番号（公開出願番号）：特開2005-173384
出願日： 2003年12月12日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】矩形等のパターンの角等を、高精細なパターン状に露光することが可能なフォトマスクを提供する。【解決手段】70°〜120°の範囲内の角度の角部を有する露光パターンaを露光するための開口部を有するフォトマスク1であって、露光パターンの角部αに対応するフォトマスクの角部対応部が、角部の二等分線cに対して垂直な線分のパターン補正用線dを端辺として有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
70°〜120°の範囲内の角度の角部を有する露光パターンを露光するための開口部を有するフォトマスクであって、
前記露光パターンの前記角部に対応する前記フォトマスクの角部対応部が、前記角部の二等分線に対して垂直な線分のパターン補正用線を端辺として有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, G02B5/20 101
2H048BA02
, 2H048BA43
, 2H048BB02
, 2H048BB07
, 2H048BB42
, 2H095BA12
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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