研磨液組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-345113
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288455
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】研磨速度を向上させると共に、スクラッチ、ピット等の表面欠陥が少なく、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性を向上させることが可能な研磨液組成物、該研磨液組成物を用いる研磨方法、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性が向上した磁気ディスク基板、並びにその製造方法を提供すること。【解決手段】〔1〕シリカ粒子と水とポリアミノカルボン酸のFe塩及び/又はAl塩を含有する研磨液組成物、〔2〕さらに無機酸及び/又は有機酸を含有する〔1〕記載の研磨液組成物、前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いる研磨方法、前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いた研磨工程を有する磁気ディスク基板の製造方法、並びに前記〔1〕又は〔2〕記載の研磨液組成物を用いて製造した磁気ディスク基板。

請求項（抜粋）：

シリカ粒子と水とポリアミノカルボン酸のFe塩及び/又はAl塩を含有する研磨液組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

Fターム (11件)：

3C058CA01 , 3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 5D112AA02 , 5D112AA24 , 5D112BA09 , 5D112GA02 , 5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (11件)

研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-174590 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
研磨剤スラリーおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-198110 出願人：株式会社岡本工作機械製作所
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-008771 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

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