特許

J-GLOBAL ID：200903013680084378

フォトレジスト組成物用の成膜性樹脂を製造する方法

発明者： ラーマン・エム・ダリル ,  マッケンジー・ダグラス ,  工藤 隆範 ,  パドマナバン・ムニラートナ
出願人/特許権者： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
代理人 (4件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-582086
公開番号（公開出願番号）：特表2004-523806
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

本発明は、フォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する方法であって、次の段階、すなわち(a)溶剤中の成膜性樹脂の溶液を用意する段階、この際、前記成膜性樹脂は、シクロオレフィンまたは酸感応性アクリレートもしくはメタクリレートを含む少なくとも一種のモノマーを重合することによって製造されたものである; (b)次の二種のフィルターシートのうちの少なくとも一方を用意する段階: (i)粒子状フィルター助材(好ましくは酸洗浄されているもの)及び約2〜約10ミクロンの平均粒度を有する粒子状イオン交換樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性マトリックスからなるフィルターシート、なお、前記粒子状フィルター助材及びイオン交換樹脂粒子は、上記マトリックスの断面中に実質的に均一に分布されている; 及び/または(ii)粒子状フィルター助材及びバインダー樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性(好ましくはセルロース性)マトリックスからなるフィルターシート: なお、前記フィルターシートは、好ましくは、埋込されたイオン交換樹脂を含まず、そして0.05〜0.5μmの平均孔サイズを有する; (c)段階a)の溶剤で段階b)のフィルターシートを濯ぐ段階; 及び(d) 段階(c)の濯ぎしたフィルターシートに上記成膜性樹脂の溶液を通す段階、を含む上記方法。また、本発明は、フォトレジスト組成物の製造方法であって、1)上記方法によって製造された成膜性樹脂、2) フォトレジスト組成物を感光性化するのに十分な量の感光性成分、及び場合によっては3)追加の適当なフォトレジスト溶剤を含む混合物を供することを含む上記方法も提供する。更にまた、本発明は、基体上に像を形成することによって微細電子デバイスを製造する方法であって、a)上記方法によって製造されたフォトレジスト組成物を用意し、b)その後、段階a)のフォトレジスト組成物で適当な基体をコーティングし、c)その後、このコーティングされた基体を、実質的に全てのフォトレジスト溶剤が除去されるまで熱処理し、そしてd)このフォトレジスト組成物を像様露光し、次いでこのフォトレジスト組成物の像様露光された領域を適当な現像剤で除去することを含む上記方法も提供する。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する方法であって、次の段階、すなわち (a) 溶剤中の成膜性樹脂の溶液を用意する段階、なおこの際、前記成膜性樹脂は、シクロオレフィンまたは酸感応性アクリレートもしくはメタクリレートモノマーを含む少なくとも一種のモノマーを重合することによって製造されたものである; (b) 次の二種のフィルターシートのうちの少なくとも一方を用意する段階、 (i) 粒子状フィルター助材及び粒子状イオン交換樹脂を不動化された状態で含む自己支持性の繊維性マトリックスからなるフィルターシート; この際、前記イオン交換樹脂は、約2〜約10マイクロメータ(μm)の平均粒度を有し、そして前記粒子状フィルター助材及びイオン交換樹脂粒子は、上記マトリックスの断面中に実質的に均一に分布されている; 及び/または (ii) 粒子状フィルター助材及びバインダー樹脂を不動化された状態で含む自己支持性繊維性マトリックスからなるフィルターシート; この際、前記フィルターシートは、0.05〜0.5μmの平均孔サイズを有する、 (c) 段階a)の溶剤で段階b)のフィルターシートを濯ぐ段階、及び (d) 段階(c)の濯ぎしたフィルターシートに上記成膜性樹脂の溶液を通す段階、 を含み、それによってフォトレジスト組成物に使用するのに好適な成膜性樹脂を製造する上記方法。

IPC (5件)：

G03F7/26 ,  C08F220/10 ,  C08F232/08 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/26 ,  C08F220/10 ,  C08F232/08 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (37件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA01 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096LA30 ,  4J100AK31R ,  4J100AK32R ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL24S ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03T ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15T ,  4J100BA16Q ,  4J100BA72P ,  4J100BB11T ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-152861   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フィルターシート及び該フィルターシート使用のホトレジスト組成物精製法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-509130   出願人：キュノインコーポレーテッド
• フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト共重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ-ン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-212840   出願人：現代電子産業株式会社