ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：植木久一 , 菅河忠志 , 二口治 , 伊藤浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-041545
公開番号（公開出願番号）：特開2007-217370
出願日： 2006年02月17日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：

【課題】本発明は、具体的な脳疾患の診断に適用することができるポジトロン断層撮影法と、当該方法に用いるポジトロン放出化合物を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明方法は、ポジトロン放出源の分布と集積度を測定するポジトロン断層撮影法において、当該ポジトロン放出源として、化合物(I)を用いることを特徴とする。[式中、Rはポジトロン放出能を有するC1-6アルキル基またはハロゲン原子基を示す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポジトロン放出源の分布と集積度を測定するポジトロン断層撮影法において、当該ポジトロン放出源として、化合物(I)を用いることを特徴とするポジトロン断層撮影法。

IPC (3件)：

A61K 51/00 , G01T 1/161 , C07D 471/08

FI (3件)：

A61K49/02 A , G01T1/161 A , C07D471/08

Fターム (14件)：

2G088EE02 , 4C065AA09 , 4C065BB14 , 4C065DD02 , 4C065EE02 , 4C065HH01 , 4C065JJ01 , 4C065KK01 , 4C065LL01 , 4C065PP03 , 4C085HH03 , 4C085KA26 , 4C085KB56 , 4C085LL13

引用特許：

出願人引用 (3件)

ポジトロン断層撮影装置用検出器
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-058716 出願人：浜松ホトニクス株式会社
ポジトロン断層撮影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-192560 出願人：科学技術庁金属材料技術研究所長
1,4-ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン-4-カルボキシレートおよびカルボキサミド誘導体、治療におけるその製造ならびに使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-608013 出願人：サノフィ-サンテラボ

審査官引用 (4件)

1,4-ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン-4-カルボキシレートおよびカルボキサミド誘導体、治療におけるその製造ならびに使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-608013 出願人：サノフィ-サンテラボ
CNS障害及び他の障害治療用医薬組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-029074 出願人：ファイザー・プロダクツ・インク
CNS-モジュレーターとしての新規ヘテロアリール-ジアザビシクロアルカン類
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-500090 出願人：ニューロサーチアクティーゼルスカブ

全件表示

引用文献：

審査官引用 (10件)

Expert Opinion Therapeutic Patents, 2005, Vol.15, No.9, pp 1221-1239
Expert Opinion Therapeutic Patents, 2005, Vol.15, No.9, pp 1221-1239
Behavioural Pharmacology, 2005, Vol.16, Suppl.1, p S47

全件表示

前のページに戻る