特許
J-GLOBAL ID：200903013716772802
粉塵除去方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澤 喜代治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-339813
公開番号（公開出願番号）：特開平8-182910
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、粉塵発生源、特に半導体素子製造工程から発生する0.3μm程度以下の粉塵を長期間にわたって効率良く捕獲でき、しかも、装置の小型化及びコンパクト化が図れるようにした粉塵除去方法及びその装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、粉塵発生源からの粉塵を含有する気体をフィルタに導いて粉塵を分離して回収する粉塵の除去方法において、上記気体を集塵装置に導入する前に上記気体から油分及び水分を除去した後、筒形に形成された集塵装置のフィルタの内側から外側に上記気体を貫流させて濾過することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
粉塵発生源からの粉塵を含有する気体をフィルタに導いて粉塵を分離して回収する粉塵の除去方法において、上記気体を集塵装置に導入する前に上記気体から油分及び水分を除去した後、筒形に形成された集塵装置のフィルタの内側から外側に上記気体を貫流させて濾過することを特徴とする粉塵除去方法。
IPC (4件)：
B01D 46/00
, B01D 15/00 101
, B01D 46/24
, B01D 49/00
