特許

J-GLOBAL ID：200903013813826763

現像処理装置および現像処理方法

発明者： 大森 伝 ,  穴井 徳行
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-233597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058432
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 現像の時間差にともなって生じる回路パターンの線幅の不均一を抑制することができる現像処理装置および現像処理方法を提供すること。【解決手段】 露光処理後の基板Gに現像液を塗布して現像処理を行うにあたり、基板Gに沿って現像液吐出ノズル42を移動させながら、基板へ現像液を吐出する際に、現像液吐出開始位置から現像液吐出終了位置までの間で基板上の現像液温度が順次高くなるように基板Gを加熱する。

請求項（抜粋）：

露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、基板に現像液を吐出するための現像液吐出ノズルと、この現像液吐出ノズルが現像液を吐出させる際に、現像液吐出ノズルを基板に沿って移動させる移動機構と、現像液吐出開始位置から現像液吐出終了位置までの間で基板上の現像液温度が変化するように基板を加熱する加熱手段とを具備することを特徴とする現像処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 F ,  G03F 7/30 501

Fターム (7件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA26 ,  2H096GB03 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA13

引用特許：

審査官引用 (5件)

• フォトレジストの現像方法および現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-266037   出願人：株式会社東芝
• 現像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-138739   出願人：株式会社東芝
• 処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-187791   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平4-023316
  
• 特開昭61-102034