特許
J-GLOBAL ID：200903013990128456

ラクトン構造を有する多環式化合物

発明者：
大篭 祐二

大篭 祐二 について

, 
高橋 裕子

高橋 裕子 について

, 
内藤 威敏

内藤 威敏 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-214989
公開番号（公開出願番号）：特開2003-113174
出願日： 2002年07月24日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】 エキシマレーザー光を光源とするフォトリソグラフィーに用いるレジスト材料のベース樹脂として好適な重合体を与える単量体を提供する.【解決手段】 下記式(1)〜(4)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物。(式中、R1〜R7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xは炭素数1ないし8のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基もしくはエチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。nは0又は正の整数である。)
請求項（抜粋）：
下記式(1)〜(4)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物。【化1】(式中、R1〜R7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xは炭素数1ないし8のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基もしくはエチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。nは0又は正の整数である。)
IPC (4件)：
C07D307/94 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601
FI (4件)：
C07D307/94 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601
Fターム (18件)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4C037WA01 ,  4J100AL08P ,  4J100BA11P ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC53P ,  4J100BC83P ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM