標的容積を粒子ビームで処理する方法及びこの方法を応用する装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白浜吉治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-591842
公開番号（公開出願番号）：特表2002-534138
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：

【要約】【解決手段】本発明は標的容積を、粒子ビーム、特に陽子ビームで処理する方法に係り、この方法は加速器を利用して粒子ビームを発生させ、このビームから、標的容積に向けられた狭いスポットを形成するステップから成り、スポットの走査速度と粒子ビームの強さとが同時変化する。

請求項（抜粋）：

加速器を使用して粒子ビーム、特に、陽子ビームを発生させ、このビームから、標的容積に向けられる狭いスポットを形成し、この陽子ビームで標的容積を処理する方法であって、前記スポットの走査速度及び粒子ビーム強さを同時に変化させることを特徴とする前記方法。

IPC (2件)：

A61N 5/10 , G21K 5/04

FI (4件)：

A61N 5/10 H , A61N 5/10 P , G21K 5/04 C , G21K 5/04 Z

Fターム (10件)：

4C082AA01 , 4C082AC05 , 4C082AG02 , 4C082AG12 , 4C082AG43 , 4C082AN02 , 4C082AN04 , 4C082AN05 , 4C082AP01 , 4C082AP02

引用特許：

審査官引用 (5件)

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