特許
J-GLOBAL ID:200903014143720450
触媒装置を装備した工業用の汚水、排水等原水の浄化装置と、浄化システム
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (1件):
竹中 一宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-290022
公開番号(公開出願番号):特開2002-096078
出願日: 2000年09月25日
公開日(公表日): 2002年04月02日
要約:
【要約】【課題】 従来の触媒手段を利用して水の浄化処理を図る構成が散見される。しかし、本発明が目的とする清澄水の活性化及び清澄化とは、内容が異なる。また本発明が目的とするセラミックホ ゙ール等によるME効果、EMハ ゚ワー効果とは、効果の内容が異なる。また従来の構造は、浄化槽中に触媒手段を充填する構成であり、当該触媒手段の取替え、又は清掃に手間及び経験を要する課題がある。【構成】 本発明は、原水が導入される沈降分離槽1、沈降分離槽に装備される数枚の傾斜板102、原水導入口100及び清澄水排出口101、沈降分離槽の清澄水排出口に接続される配管、配管に接続されるカートリッシ ゙式の触媒装置4、触媒装置に充填されている触媒手段400で構成される触媒装置を装備した原水の浄化装置である。従って、清澄水を、触媒装置を利用して、簡単かつ確実に浄化水にできること、又は触媒装置の取替え、清掃、及び管理が簡便に行えること、等の特徴がある。
請求項(抜粋):
原水が導入される沈降分離槽と、この沈降分離槽に装備される数枚の傾斜板又は濾材等の分離手段、原水導入口及び清澄水排出口と、前記沈降分離槽に設けた触媒部と、この触媒部に充填されている触媒手段とで構成される触媒装置を装備した工業用の汚水、排水等原水の浄化装置。
IPC (5件):
C02F 1/68 530
, C02F 1/68 510
, C02F 1/68 520
, C02F 1/68 540
, B01D 21/02
FI (5件):
C02F 1/68 530 A
, C02F 1/68 510 A
, C02F 1/68 520 V
, C02F 1/68 540 Z
, B01D 21/02 E
引用特許:
前のページに戻る