特許
J-GLOBAL ID：200903014174589042
フォトレジストフィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330903
公開番号（公開出願番号）：特開平11-149157
出願日： 1997年11月14日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像度、密着性、耐エッチング性、レジストパターン形成性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム/感光性樹脂組成物層/保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルムの厚みが10〜30μmで、表面粗度が0.001〜0.015μmであり、かつ、感光性樹脂組成物層が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)光重合開始剤として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)特定式で示される化合物を0.1〜10重量部含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
請求項（抜粋）：
支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)の厚みが10〜30μmで、表面粗度(Ra)が0.001〜0.015μmであり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)光重合開始剤として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)下記?@式で示される化合物を0.1〜10重量部含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。【化1】(ここで、R1、R2は水素又はアルキル基で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。)
IPC (5件)：
G03F 7/004 512
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/033
, G03F 7/09 501
G03F 7/004 512
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/033
, G03F 7/09 501
