特許

J-GLOBAL ID：200903021002291846

光学用合成石英ガラス、その製造方法およびエキシマレーザー用光学部材

発明者： 西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  大塚 久利
出願人/特許権者： 信越石英株式会社 ,  信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-036597
公開番号（公開出願番号）：特開平10-338531
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は、光透過性、光学的均質性および光学的安定性に優れる上にレーザー耐性も高い光学用合成石英ガラス、その製造方法およびエキシマレーザー用光学部材を提供すること。【解決手段】オルガノジシラザン化合物を火炎加水分解法で得たシリカ微粒子を基体上で直接ガラス化した合成石英ガラスであって、その複屈折率が5nm/cm以下、屈折率差(Δn)が2×10-6以下である光学用合成石英ガラス、および一般式化(1)【化1】(R1)3SiNHSi(R2)3 (1)(式中、R1およびR2は同一であってもまた異なってもよい水素、炭素数1〜3の一価の脂肪族炭化水素基を表わす)で表わされるオルガノジシラザン化合物を、燃焼ガスおよび支燃性ガスからなる火炎中に導入して生成するシリカ微粒子を回転する耐熱性基体上に堆積・溶融ガラス化するその製造方法、並びに該合成石英ガラスを用いたエキシマレーザー用光学部材。

請求項（抜粋）：

オルガノジシラザン化合物を火炎加水分解法で得たシリカ微粒子を基体上で直接ガラス化した合成石英ガラスであって、その複屈折が5nm/cm以下、屈折率差(Δn)が2×10-6以下であることを特徴とする光学用合成石英ガラス。

IPC (7件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  C03B 19/01 ,  C03C 3/06 ,  C08L 83/08 ,  G02B 1/02 ,  H01S 3/225

FI (7件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  C03B 19/01 ,  C03C 3/06 ,  C08L 83/08 ,  G02B 1/02 ,  H01S 3/223 E

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 合成石英ガラス部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-282256   出願人：信越化学工業株式会社
• 紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-164039   出願人：株式会社ニコン
• 高純度溶融シリカガラスの非多孔質物体を作成する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-245980   出願人：コーニングインコーポレイテッド
• 高純度溶融シリカガラスの非多孔性ボディの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-146128   出願人：コーニングインコーポレイテッド