特許
J-GLOBAL ID：200903014297588636
リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板テーブル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-320258
公開番号（公開出願番号）：特開2006-146195
出願日： 2005年11月04日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびこれで使用する基板テーブルの提供。【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。基板テーブルは、基板の目標部分の少なくとも一部を流体クッション上で支持する上部支持表面を有する支持部材を含む。また、装置は、クッションを作るために上部支持表面に流体を供給する流体供給系、および支持部材に作用するように構成されたアクチュエータ装置を含む。アクチュエータ装置は、基準平面に対する上部支持表面のトポグラフィを調節するように制御可能である。目標表面にビームを適正に集束すべく、基板の厚さの不規則性を補償できる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射線ビームを調整するように構成された照明系と、
放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン付与装置と、
基板を支持するように構成された基板テーブルであり、流体クッション上で前記基板の目標部分の少なくとも一部を支持するように構成された上部支持表面を有する支持部材を含む前記基板テーブルと、
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、
前記流体クッションを作るために、前記上部支持表面に流体を供給するように構成された流体供給系と、
前記支持部材に対して働くように構成され、基準平面に対する前記上部支持表面のトポグラフィを調節するように制御可能であるアクチュエータ装置とを含むリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 515G
2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097DB20
, 2H097LA12
, 5F046BA07
, 5F046CC01
, 5F046CC08
, 5F046CC11
, 5F046DA05
