特許
J-GLOBAL ID:200903014397932962
光学特性の不均一性測定方法および装置ならびにこれを利用した製品良否判定装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志村 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-347917
公開番号(公開出願番号):特開2005-114500
出願日: 2003年10月07日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】 シャドウマスクやカラーフィルタなど、光学特性が均一であるべき測定対象物について、ムラ領域を正確に認識し、不均一性の評価値を高精度で得る。【解決手段】 測定対象物を撮像して画像データとして入力し、ムラ領域を強調するためのフィルタリング処理を行う。各画素の輝度値についての最頻値Hfを求め、輝度値が最頻値Hfよりも小さい画素の領域U1や、輝度値が最頻値Hfよりも大きい画素の領域U2を、ムラ領域と定義する。ムラ領域U1,U2内の各画素についての輝度値と最頻値Hfとの差の合計を、画像データを構成する全画素数で除した値を、ムラの程度を示す評価値Mとして算出する。評価値Mが所定の許容値を越える製品および最頻値Hfが所定の基準最頻値より大きく外れている製品を不良品とすることにより製品検査を行う。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
光学特性が均一であるべき測定対象物について、光学特性の不均一性を定量的に測定するための方法であって、
測定対象物を撮像することにより、所定の輝度値をもった画素の集合からなる画像データを入力する画像データ入力段階と、
前記画像データ入力段階によって入力された画像データを構成する各画素の輝度値の最頻値を求める最頻値演算段階と、
前記画像データを構成する各画素のそれぞれについて輝度値と前記最頻値との差を求め、差が所定の許容誤差を越える画素からなる領域をムラ領域と定義するムラ領域定義段階と、
前記ムラ領域内の各画素の輝度値と前記最頻値との隔たりの程度を示す値を、前記測定対象物についての光学特性の不均一性を示す評価値として求める評価値算出段階と、
を有することを特徴とする光学特性の不均一性測定方法。
IPC (4件):
G01M11/00
, G01N21/892
, G01N21/956
, H01L21/027
FI (4件):
G01M11/00 T
, G01N21/892 A
, G01N21/956 A
, H01L21/30 516C
Fターム (13件):
2G051AA31
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AB20
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA06
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EC02
, 2G086EE05
, 2G086EE12
, 5F046DA02
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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