特許
J-GLOBAL ID：200903014563534822
検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301669
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135056
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、電子ビームを利用して、例えば半導体ウェーハの集積回路パターン像等を取得する検査装置に関し、特に試料面の高さに応じて的確に焦点を合わせを行う検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】 試料面上に電子ビームを照射する照射手段24と、電子ビームの照射により、試料から発生する二次電子、反射電子、または後方散乱電子の少なくとも一種を二次ビームとして検出し、試料を撮像する電子検出手段35と、電子検出手段35と試料27との間に配置され、電子検出手段35の検出面に、二次ビームを結像させる写像電子光学系28、31と、試料27の高さを検出する高さ検出手段41と、試料の高さに応じて写像電子光学系28、31の焦点合わせを行う焦点制御手段39とを備えて構成する。
請求項（抜粋）：
試料面上に電子ビームを照射する照射手段と、前記電子ビームの照射により、前記試料から発生する二次電子、反射電子、または後方散乱電子の少なくとも一種を二次ビームとして検出し、前記試料を撮像する電子検出手段と、前記電子検出手段と前記試料との間に配置され、前記電子検出手段の検出面に、前記二次ビームを結像させる写像電子光学系と、前記試料の高さを検出する高さ検出手段と、前記試料の高さに応じて前記写像電子光学系の焦点合わせを行う焦点制御手段とを備えたことを特徴とする検査装置。
引用特許：
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