特許
J-GLOBAL ID：200903014661313508

チタンナノ細線、チタンナノ細線の製造方法、構造体及び電子放出素子

発明者：
岩崎 達哉

岩崎 達哉 について

, 
田 透

田 透 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-313939
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246300
出願日： 1998年10月19日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 基体上に特定の方向を有し、細線径が均一なチタンナノ細線を等間隔に配したチタンナノ細線の製造方法を提供する。【解決手段】 チタンを含む表面を有する基体上に該表面に対して伸びる細孔を有する層を備えた構造体を用意する第1の工程、及び該構造体を熱処理して該細孔内にチタンを含む細線を形成する第2の工程を有するチタンナノ細線の製造方法。
請求項（抜粋）：
チタンを含む表面を有する基体上に該表面に対して伸びる細孔を有する層を備えた構造体を用意する第1の工程、及び該構造体を熱処理して該細孔内にチタンを含む細線を形成する第2の工程を有するチタンナノ細線の製造方法。
IPC (8件)：
C30B 29/62 ,  C25D 11/04 305 ,  H01J 1/30 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 29/06 ,  B22F 9/02 ,  B22F 9/12 ,  B22F 9/14
FI (8件)：
C30B 29/62 C ,  C25D 11/04 305 ,  H01J 1/30 F ,  H01L 21/28 301 R ,  H01L 29/06 ,  B22F 9/02 Z ,  B22F 9/12 Z ,  B22F 9/14 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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