新規高分子化合物、該高分子前駆体、および該高分子前駆体を用いた薄膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-081230
公開番号（公開出願番号）：特開2003-252992
出願日： 2002年03月22日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：

【要約】【課題】多官能アミノ化合物をモノマーとして用いても、合成途中でゲル化することなく、ポリイミド薄膜を容易に製造するための前駆体を提供することである。【解決手段】特定の多官能アミンとテトラカルボン酸ジエステルとの塩の溶液からポリイミドを得る。【効果】ポリイミド前駆体およびその溶液は、多官能アミノ化合物を用いてもゲル化の心配がなく、3次元構造を有するポリイミド薄膜を容易に製造できた。

請求項（抜粋）：

式(1)で示される多官能アミンと、【化1】(式(1)において、Aは4価の有機基であり、nは0〜3の整数である。)式(2)で示されるテトラカルボン酸ジエステルとの塩。【化2】(式(2)において、Bは炭素数1〜20の4価有機基であり、R1およびR2はそれぞれ、独立に、炭素数1〜5のアルキル基を表す。)

IPC (6件)：

C08G 73/10 , C08J 5/18 CFG , H01B 3/30 , H01B 17/56 , H01L 21/312 , C08L 77:00

FI (8件)：

C08G 73/10 , C08J 5/18 CFG , H01B 3/30 D , H01B 3/30 M , H01B 17/56 A , H01B 17/56 L , H01L 21/312 B , C08L 77:00

Fターム (44件)：

4F071AA60 , 4F071AF39 , 4F071AH12 , 4F071AH13 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4F071BC02 , 4J043PA13 , 4J043QB39 , 4J043RA34 , 4J043RA35 , 4J043RA37 , 4J043SA08 , 4J043SA46 , 4J043SB01 , 4J043TA14 , 4J043TB01 , 4J043UA081 , 4J043UA121 , 4J043UA122 , 4J043UB121 , 4J043ZA46 , 4J043ZB11 , 5F058AA10 , 5F058AC02 , 5F058AF04 , 5F058AF06 , 5F058AG01 , 5F058AH02 , 5G305AA06 , 5G305AA07 , 5G305AA11 , 5G305AB10 , 5G305BA04 , 5G305CA21 , 5G305CB15 , 5G305CB17 , 5G333AA01 , 5G333AB13 , 5G333CA03 , 5G333CB01 , 5G333DA07 , 5G333DA11

引用特許：

審査官引用 (4件)

層間絶縁膜、その形成方法及び配線の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-070745 出願人：松下電器産業株式会社
有機絶縁膜材料、その製造方法、有機絶縁膜の形成方法、及び、有機絶縁膜を設けた半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-059890 出願人：富士通株式会社
特開昭59-144732

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