測定装置、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-235947
公開番号（公開出願番号）：特開2009-068922
出願日： 2007年09月11日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】投影光学系を露光装置に搭載した状態で、投影光学系の光学特性である無偏光収差と偏光収差(複屈折のリタデーションと方位)の両方を測定。【解決手段】被検光学系に入射する光の偏光状態を互いに異なる少なくとも2つの偏光状態に制御する第1の偏光制御部と、撮像面を有する撮像センサと第1の偏光制御部と被検光学系との間又は被検光学系と撮像センサとの間に配置されて光の波面を分割する波面分割部と、被検光学系と撮像センサとの間に配置され、光軸周りに回転可能な位相差板を含み、光の偏光状態を制御する第2の偏光制御部と、少なくとも2つの偏光状態の光のそれぞれについて複数の干渉パターンが順次に撮像面に形成されるように位相差板の回転を制御する制御部と、撮像センサで撮像された複数の干渉パターンに基づいて被検光学系の光学特性を算出する処理部とを有することを特徴とする測定装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検光学系の光学特性を測定する測定装置であって、前記被検光学系に入射する光の偏光状態を互いに異なる少なくとも2つの偏光状態に制御する第1の偏光制御部と、撮像面を有する撮像センサと、前記第1の偏光制御部と前記被検光学系との間又は前記被検光学系と前記撮像センサとの間に配置されて光の波面を分割する波面分割部と、前記被検光学系と前記撮像センサとの間に配置され、光軸周りに回転可能な位相差板を含み、光の偏光状態を制御する第2の偏光制御部と、前記少なくとも2つの偏光状態の光のそれぞれについて複数の干渉パターンが順次に前記撮像面に形成されるように前記位相差板の回転を制御する制御部と、前記撮像センサで撮像された複数の干渉パターンに基づいて前記被検光学系の光学特性を算出する処理部とを有することを特徴とする測定装置。

IPC (3件)：

G01M 11/02 , H01L 21/027 , G01J 4/04

FI (4件)：

G01M11/02 B , H01L21/30 516C , H01L21/30 516A , G01J4/04 Z

Fターム (8件)：

2G086HH06 , 5F046BA03 , 5F046CB15 , 5F046CB23 , 5F046CB24 , 5F046DA01 , 5F046DA13 , 5F046DB01

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平2-116732号公報
測定装置及び測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-263969 出願人：キヤノン株式会社
干渉計装置及び収差計測方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-048719 出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社

全件表示

前のページに戻る