ハイスループット合成システム及び該システムを自動で行うための合成装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：庄司隆
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004005912
公開番号（公開出願番号）：WO2004-097014
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

タンパク質やRNAなどの生体高分子のハイスループットな試験管内合成反応法のシステム技術を開発する。詳しくは、鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム及び該システムを用いた自動合成機;1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応系に導く。2)合成速度の略低下前後又は合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液の希釈処理をする。3)希釈処理に続いて、濃縮処理を行う。4)反応系を合成反応系に戻す。又は1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液を濃縮処理する。3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。4)希釈された反応系を合成反応系に戻す。

請求項（抜粋）：

鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム; 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を希釈処理する。 3)希釈処理に続いて濃縮処理を行う。 4)濃縮された反応系によって合成反応をおこなう。又は 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を濃縮処理する。 3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。 4)希釈された反応系によって合成反応をおこなう。

IPC (3件)：

C12P 21/02 , C12M 1/00 , C12N 15/09

FI (3件)：

C12P21/02 C , C12M1/00 A , C12N15/00 A

Fターム (25件)：

4B024AA01 , 4B024AA03 , 4B024AA19 , 4B024AA20 , 4B024BA80 , 4B024CA02 , 4B024CA12 , 4B024DA20 , 4B024GA11 , 4B024HA20 , 4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC01 , 4B064AG01 , 4B064CA01 , 4B064CA19 , 4B064CA50 , 4B064CC01 , 4B064CC24 , 4B064CD12 , 4B064CD13 , 4B064CD30 , 4B064CE03 , 4B064CE06 , 4B064DA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

無細胞タンパク質合成方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP2001007356 出願人：遠藤弥重太
汎用性および高効率機能を備えた鋳型分子およびこれを利用する無細胞タンパク質合成手段
公報種別：再公表公報出願番号：JP2000007123 出願人：和研薬株式会社

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