重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢口平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-219539
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060733
出願日： 1997年08月14日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】波長が220nm以下のエキシマレーザー(193nmArFレーザ等)の遠紫外線等に対し吸収がなく(透明であり)、高い感度と解像度を有する、微細パターン形成に適したレジスト樹脂組成物を提供すること。【解決手段】酸により解離する基(t-ブチル基、t-ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、又はテトラヒドロピラニル基等)を側鎖に有するポリオルガノシルセスキオキサンと放射線照射により分解して酸を発生する酸発生剤を含んで成ることを特徴とするレジスト樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)からなるポリオルガノシルセスキオキサンを含有することを特徴とする重合体。一般式(1);【化1】(式中R1 ,R2 は、それぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基から選ばれた少なくとも1種の置換基、または酸で分解し得るエステルを示し、R3 〜R6は炭素数1〜4のアルキル基、または水素原子を示す。またnは正の数である)

IPC (6件)：

C08G 77/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (6件)：

C08G 77/04 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-106549
ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-270580 出願人：信越化学工業株式会社
酸感応ポリマおよびホトレジスト構造の作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-210073 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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