特許
J-GLOBAL ID:200903015022067390

オルガノシリコンナノクラスター及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-163718
公開番号(公開出願番号):特開平11-014841
出願日: 1997年06月20日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【課題】スピンコートでシリコン薄膜の形成を可能とする。【解決手段】有機溶剤に可溶で、該溶液のTauc プロットにより求めたバンドギャップが3eVから1.2eV あるオルガノシリコンナノクラスター。
請求項(抜粋):
有機溶剤に可溶なシリコンナノクラスター。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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