光ディスク用記録材料の硬化処理装置及び光ディスク用原盤製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松隈秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-011961
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203136
出願日： 1995年01月27日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】簡単な構成によって、ガラス原板に塗布された光ディスク用記録材料(レジスト)を硬化処理するための装置を提供することを目的とする。【構成】硬化処理中、ガラス原板はホットプレートより浮いた状態で、即ち、ガラス原板の下面がホットプレートの上面より所定の距離だけ隔置された状態で支持される。それによって、ガラス原板の温度分布は均一となる。ホットプレートは上側の均熱板と下側のヒート部とを有する。

請求項（抜粋）：

原板の表面に塗布された光ディスク用記録材料の硬化処理装置において、上記光ディスク用記録材料を硬化させるために上記原板を加熱するためのホットプレートと、上記原板を支持するための支持装置と、を有し、該支持装置は上記原板が上記ホットプレートより所定の距離だけ隔置された状態で上記原板を支持するように構成されていることを特徴とする光ディスク用記録材料の硬化処理装置。

IPC (2件)：

G11B 7/26 501 , G11B 11/10 541

引用特許：

審査官引用 (4件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-043278 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平3-270012
ベーク装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-148067 出願人：東京応化工業株式会社, タツモ株式会社

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