特許
J-GLOBAL ID:200903015258197430
有機EL装置の製造方法及びその装置、電気光学装置、並びに電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-004939
公開番号(公開出願番号):特開2003-208978
出願日: 2002年01月11日
公開日(公表日): 2003年07月25日
要約:
【要約】【課題】 封止部に様々な機能を容易に付加することができ、有機EL装置の性能の向上を図ることができる有機EL装置の製造方法及びその装置を提供する。【解決手段】 基板300上に形成される有機EL装置の陰極303を蒸着により形成する陰極形成工程と、有機EL装置を封止する封止工程とを有し、陰極形成工程と前記封止工程との間で基板300の上下を反転させる。
請求項(抜粋):
基板上に形成される有機EL装置の陰極を蒸着により形成する陰極形成工程と、前記有機EL装置を封止する封止工程とを有し、前記陰極形成工程と前記封止工程との間で前記基板を反転させることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10
, H05B 33/04
, H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/10
, H05B 33/04
, H05B 33/14 A
Fターム (4件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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有機EL素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-012276
出願人:新日鐵化学株式会社
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有機EL素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-359134
出願人:パイオニアビデオ株式会社, パイオニア株式会社
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基板搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-069633
出願人:株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社
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液処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-331551
出願人:シャープ株式会社
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