特許
J-GLOBAL ID:200903015439488274

水素製造システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-274618
公開番号(公開出願番号):特開2005-035842
出願日: 2003年07月15日
公開日(公表日): 2005年02月10日
要約:
【課題】小型で効率のよい水素製造システムを提供すること。【解決手段】水素発生反応器および水素膜分離器を備えた水素製造システムであって、(1)該水素発生反応器が、シクロヘキサン環を有する炭化水素を原料とし、そのシクロヘキサン環を脱水素して芳香族環とする反応により水素を発生させる水素発生反応器であること(2)該水素膜分離器が水素中に含まれる炭化水素を、セラミック膜を用いた膜分離により除去する水素膜分離器であることを特徴とする水素製造システム。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水素発生反応器および水素膜分離器を備えた水素製造システムであって、 (1)該水素発生反応器が、シクロヘキサン環を有する炭化水素を原料とし、そのシクロヘキサン環を脱水素して芳香族環とする反応により水素を発生させる水素発生反応器であること (2)該水素膜分離器が水素中に含まれる炭化水素を、セラミック膜を用いた膜分離により除去する水素膜分離器であること を特徴とする水素製造システム。
IPC (2件):
C01B3/26 ,  C01B3/56
FI (2件):
C01B3/26 ,  C01B3/56 Z
Fターム (5件):
4G140DA03 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE06
引用特許:
審査官引用 (7件)
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