特許

J-GLOBAL ID：200903015521406472

光学素子の製造方法

発明者： 吉瀬 幸司 ,  矢部 秀毅 ,  丸本 健二 ,  綾 淳
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089860
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287370
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】 広範囲の波長帯域にわたって利用可能なレンズ厚みを持つ広波長帯域用レンズ等の光学素子を高精度で、且つ、低コストで提供する。【解決手段】 光学素子10の製造方法は、光学素子部材1を用意する工程と、前記光学素子部材の少なくとも一方の表面上にレジスト膜2を形成する工程と、光源から紫外光の波長以下の波長を有する光22を、光学的に機能する光学面に対応する形状を備えた光吸収体11を介して前記レジスト膜に照射して、3次元形状のレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記光学素子部材をエッチングする工程とを含む。

請求項（抜粋）：

光学素子部材を用意する工程と、前記光学素子部材の少なくとも一方の表面上にレジスト膜を形成する工程と、光源から紫外光の波長以下の波長を有する光を、光学的に機能する光学面に対応する形状を備えた光吸収体を介して前記レジスト膜に照射して、3次元形状のレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記光学素子部材をエッチングする工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (7件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 502 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/40 521

FI (7件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 502 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/02 B ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/40 521

Fターム (18件)：

2H042BA03 ,  2H042BA13 ,  2H042BA15 ,  2H049AA04 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA45 ,  2H049AA63 ,  2H096AA00 ,  2H096AA28 ,  2H096EA07 ,  2H096EA30 ,  2H096HA14 ,  2H096JA04 ,  2H097CA13 ,  2H097FA09 ,  2H097LA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭59-172723
  
• 無機カルコゲナイドガラスを用いたグレースケールマスク及び深さパターン転写技術
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-549320   出願人：エアリアルイメージングコーポレイション
• グレートーンマスク、これを用いたパターンの形成方法およびイオン注入方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-024932   出願人：三星電子株式会社
• 微細構造の形成方法及び光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-065641   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭64-038701
  
• 特開昭59-172723
  
• 特開昭64-038701