特許
J-GLOBAL ID：200903015663167742

ガス溶解水の調製方法

発明者：
森田 博志

森田 博志 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-079376
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料などのウェット洗浄に用いられる所望濃度のガス溶解水を、短時間で効率的に調製することができるガス溶解水の調製方法を提供する。【解決手段】所定温度、所定圧力における所望濃度のガス溶解水を得る方法であって、ガスを溶解させる水を、該所定温度より低い温度に温度調整し、又は、該所定圧力より高い圧力に圧力調整し、温度調整又は圧力調整した水に、該所望濃度に相当する量のガスを供給して溶解したのち、得られたガス溶解水を所定温度まで加温し、又は、所定圧力まで減圧することを特徴とするガス溶解水の調製方法。
請求項（抜粋）：
所定温度、所定圧力における所望濃度のガス溶解水を得る方法であって、ガスを溶解させる水を、該所定温度より低い温度に温度調整し、又は、該所定圧力より高い圧力に圧力調整し、温度調整又は圧力調整した水に、該所望濃度に相当する量のガスを供給して溶解したのち、得られたガス溶解水を所定温度まで加温し、又は、所定圧力まで減圧することを特徴とするガス溶解水の調製方法。
IPC (2件)：
B01F 1/00 ,  H01L 21/304 647
FI (2件)：
B01F 1/00 A ,  H01L 21/304 647 Z
Fターム (4件)：
4G035AA01 ,  4G035AB54 ,  4G035AE15 ,  4G035AE19
引用特許：
審査官引用 (10件)
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