特許
J-GLOBAL ID:200903015710851924
4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体塩の製造法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-125823
公開番号(公開出願番号):特開2001-302621
出願日: 2000年04月26日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 短時間容易に、高収率・高純度で工業的に4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体塩を製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式1(X1、X2は独立してハロゲン、RはC2〜12のジアルキルアミノ基、C6〜12の置換/無置換のアリール基またはC3〜10の置換/無置換の環状アミノ基を表す。)の4-置換-1,2-ジハロゲノベンゼンを極性溶媒中で水硫化物と反応させてモノチオール体に転換し、これを硫黄および遷移金属と反応させて4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体に転換し、これと第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩または色素とをアルコール存在下に反応させる工程を含む一般式2(Rは前記と同じ、A+は第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基または色素カチオン、Mは遷移金属を表す。)の化合物の製造法。
請求項(抜粋):
下記一般式(1);【化1】(式中、X1、X2は、それぞれ独立してハロゲン原子を表す。Rは炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリール基、または炭素数3〜10の置換または無置換の環状アミノ基を表す。)で示される4-置換-1,2-ジハロゲノベンゼンを極性溶媒中で水硫化物と反応させてモノチオール体に転換する工程と、前記モノチオール体を硫黄および遷移金属と反応させて4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体に転換する工程と、前記4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体と第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩または色素とをアルコールの存在下に反応させる工程と、を含む下記一般式(2);【化2】(式中、Rは前記一般式(1)と同一であり、A+は第4級アンモニウム基、第4級ホスホニウム基または色素カチオンを表す。Mは遷移金属を表す。)で示される4-置換-1,2-ベンゼンジチオール遷移金属錯体塩の製造法。
IPC (6件):
C07C323/65
, C07D211/18
, C07D295/22
, C07B 61/00 300
, C07F 1/08
, C07F 15/06
FI (6件):
C07C323/65
, C07D211/18
, C07D295/22 Z
, C07B 61/00 300
, C07F 1/08 D
, C07F 15/06
Fターム (40件):
4C054AA02
, 4C054CC01
, 4C054DD01
, 4C054EE01
, 4C054FF05
, 4C054FF27
, 4H006AA02
, 4H006AC63
, 4H006AC90
, 4H006BB42
, 4H006BD70
, 4H006BE90
, 4H006TA02
, 4H006TA05
, 4H006TB81
, 4H039CA71
, 4H039CA90
, 4H039CL00
, 4H048AA02
, 4H048AC90
, 4H048BA50
, 4H048BB14
, 4H048BB20
, 4H048BB42
, 4H048BD70
, 4H048BE90
, 4H048VA20
, 4H048VA30
, 4H048VA40
, 4H048VA42
, 4H048VA45
, 4H048VA56
, 4H048VB10
, 4H050BB14
, 4H050BB20
, 4H050BB42
, 4H050BD70
, 4H050BE90
, 4H050WB15
, 4H050WB21
引用特許: