特許
J-GLOBAL ID：200903015727879296
光照射を用いた熱定数の解析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中前 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-334989
公開番号（公開出願番号）：特開平10-160694
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 照射する光ビームの幅方向の変化及び測定用試料の側面からの熱損失を取り込んで測定用試料における未知の熱拡散率、ビオー数等の熱定数を高精度でかつ効率的に決定することができる光照射を用いた熱定数の解析方法を提供する。【解決手段】 熱拡散率、ビオー数等の熱定数が未知の測定用試料11に、その表面側から光ビームを照射して、そのときに得られる裏面側の実測温度応答と、熱拡散率及びビオー数を変数として含む理論温度応答との偏差を求め、偏差の最小値を与える熱拡散率及びビオー数を決定する光照射を用いた熱定数の解析方法であって、光ビームの断面が円形であり、光ビーム中心からの半径rに対応する位置の照射の強度分布g(r)、光ビームの照射時間tに対する時間分布f(t)を用いて、理論温度応答を求める。
請求項（抜粋）：
熱拡散率、ビオー数等の熱定数が未知の測定用試料に、その表面側から光ビームを照射して、そのときに得られる裏面側の実測温度応答と、熱拡散率及びビオー数を変数として含む理論温度応答との偏差を求め、該偏差の最小値を与える熱拡散率及びビオー数を決定する光照射を用いた熱定数の解析方法であって、前記光ビームの断面が円形であり、該光ビーム中心からの半径rに対応する位置の照射の強度分布g(r)、前記光ビームの照射時間tに対する時間分布f(t)を用いて、前記理論温度応答を求めることを特徴とする光照射を用いた熱定数の解析方法。
引用特許：
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